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光刻机到底难在哪?荷兰小厂ASML成长史

艺术魅力2025-07-07 00:04:3765

光刻机到底难在哪?荷兰小厂ASML成长史

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1977年出生,底难1997年本科毕业于中国科学技术大学,1999和2002年分别获得美国哈佛大学化学硕士和物理化学博士学位。2017年获德国化学工程和生物技术协会(DECHMA)和德国催化协会催化成就奖(Alwin Mittasch Prize 2017),荷兰所带领的纳米和界面催化团队获首届全国创新争先奖牌。

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小厂2016年入选英国皇家化学会会士。成长投稿以及内容合作可加编辑微信:cailiaokefu。获1996-2000年度香港求是杰出青年学者奖、光刻2005年国家自然科学二等奖(排名第三)、2012年获何梁何利科技进步奖和2015年周光召基金会基础科学奖。

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小厂在天然气(甲烷)直接转化制高值化学品和煤基合成气直接制低碳烯烃等研究领域取得重要研究进展。

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